直線電機(jī)輔助3nm芯片工藝進(jìn)展順利。上個(gè)月中旬，臺積電聯(lián)席主席TS-wei在一次投資者和金融分析師電話會議上表示，臺積電3nm芯片制造工藝的發(fā)展進(jìn)展相當(dāng)順利，已經(jīng)開始接觸早期客戶。

 

 

 

根據(jù)直線電機(jī)系列收集的數(shù)據(jù)，CC-Wei只透露了臺積電在N3節(jié)點(diǎn)的技術(shù)發(fā)展進(jìn)展順利，臺積電已經(jīng)評估了所有可能的晶體管結(jié)構(gòu)選擇，并為客戶提供了合理的解決方案。未提及N3的特性及其與N5相比的優(yōu)點(diǎn)。

 

 

 

此外，直線電機(jī)小系列可以確保臺積電3nm節(jié)點(diǎn)將使用深紫外（DUV）和極紫外（EUV）光刻設(shè)備。由于臺積電N5工藝使用14層EUV，相關(guān)人員希望使用N3。層數(shù)可能更高。

 

 

 

當(dāng)談到極端紫外線（EUV）時(shí)，直線電機(jī)小系列必須提到荷蘭ASMA（ASML.O），因?yàn)榈侥壳盀橹梗挥蠥SMA成功地開發(fā)、制造和銷售了極端紫外線（EUV）設(shè)備。據(jù)報(bào)道，ASMA的主要業(yè)務(wù)是光刻機(jī)，它占光刻機(jī)市場的80%以上，在45納米及以下，并在EUV光刻領(lǐng)域處于壟斷地位。

 

 

 

近年來，隨著直線電機(jī)的迅速發(fā)展，它已與光刻設(shè)備相聯(lián)系。目前，在光刻機(jī)中使用直線電機(jī)的情況也比較普遍。對于上海微電子來說，它是專門從事半導(dǎo)體設(shè)備的。研發(fā)與制造，產(chǎn)品包括前光刻機(jī)、后包裝光刻機(jī)、平板顯示光刻機(jī)、測試設(shè)備、搬運(yùn)設(shè)備等，以關(guān)鍵為重點(diǎn)，上海微電子多次向我方購買高性能、高性能的產(chǎn)品。博智達(dá)直線電機(jī)的質(zhì)量用于光刻機(jī)的開發(fā)和制造。